更新时间：2024-09-26
高分辨率光谱仪HR2HR2 光谱仪性能可靠，采集速度快，波长热稳定性好，适用于等离子监测，药物分析等应用。其坚固耐用的设计使 HR2 成为OEM集成的理想之选。
高速采集和高分辨率
高分辨率光谱仪HR2
| 型号 | 波长范围 | 分辨率（FWHM) | 刻线密度（线/毫米） | 闪耀波段 |
|---|---|---|---|---|
| UV-Vis | 250 – 400 nm | 0.12 – 1.22 nm | 1800 | Holographic |
| UV-Vis | 220 – 410 nm | 0.17 – 1.68 nm | 1200 | Holographic |
| UV-Vis | 220 – 880 nm | 0.52 – 5.36 nm | 400 | 250 nm |
| UV-Vis | 220 – 650 nm | 0.35 – 3.52 nm | 600 | 300 nm |
| UV-Vis | 250 – 700 nm | 0.44 – 4.44 nm | 500 | 330 nm |
| Vis-NIR | 350 – 800 nm | 0.35 – 3.52 nm | 600 | 400 nm |
| Vis-NIR | 450 – 530 nm | 0.08 – 0.77 nm | 2400 | Holographic |
| Vis-NIR | 400 – 850 nm | 0.35 – 3.52 nm | 600 | 500 nm |
| Vis-NIR | 450 – 650 nm | 0.17 – 1.68 nm | 1200 | Holographic |
| Vis-NIR | 530 – 645 nm | 0.12 – 1.22 nm | 1800 | Holographic |
| Vis-NIR | 350 – 1025 nm | 0.53 – 5.36 nm | 400 | 400 nm |
| Vis-NIR | 520 – 955 nm | 0.35 – 3.52 nm | 600 | 750 nm |
| NIR | 750 – 1000 nm | 0.27 – 2.75 nm | 900 | 500 nm |
| NIR | 750 – 900 nm | 0.16 – 1.68 nm | 1200 | 750 nm |
| NIR | 750 – 1100 nm | 0.35 – 3.52 nm | 600 | 1000 nm |
| Extended-range | 200 – 1000 nm | 0.71 – 7.19 nm | 300 | 200 nm |
| Extended-range | 220 – 1100 nm | 0.71 – 7.19 nm | 300 | Composite |
| Extended-range | 220 – 1100 nm | 0.71 – 7.19 nm | 300 | 500 nm |
| Slit Options | 5, 10, 25, 50, 100, 200 µm | |||
| 积分时间 | 1 μs – 2 s | |||
| 信噪比（单次扫描@10ms） | 380:1 | |||
| 信噪比（高速平均模式） | 25,800:1 | |||
| 接口 | SMA, TFM-108-02-L-DH Samtec, USB Type-C | |||
| 尺寸 | 148.8 x 106.4 x 48.2 mm | |||
| 重量 | 0.9306 kg | |||
| 温度（工作） | 0 °C – 55 °C | |||
| 温度（存储） | -30 °C – 70 °C | |||
| 适合的应用 |
| |||
高分辨率光谱仪HR2
森泉为您的科研事业添砖加瓦：
1） 激光控制：激光电流源、激光器温控器、激光器控制、伺服设备与系统等等
2） 探测器：光电探测器、单光子计数器、单光子探测器、CCD、光谱分析系统等等
3） 定位与加工：纳米定位系统、微纳运动系统、多维位移台、旋转台、微型操作器等等
4） 光源：半导体激光器、固体激光器、单频激光器、单纵模激光器、窄线宽激光器、
光通讯波段激光器、CO2激光器、中红外激光器、染料激光器、飞秒超快激光器等等
5） 光机械件：用于光路系统搭建的高品质无应力光机械件，如光学调整架、镜架、
支撑杆、固定底座等等
6） 光学平台：主动隔振平台、气浮隔振台、实验桌、刚性工作台、面包板、隔振、隔磁、
隔声综合解决方案等等
7） 光学元件：各类晶体、光纤、偏转镜、反射镜、透射镜、半透半反镜、滤光片、
衰减片、玻片等等
8） 染料：激光染料、荧光染料、光致变色染料、光致发光染料、吸收染料等等
